차세대 반도체를 위한 초정밀 비전 기술
반도체 전공정과 후공정 패키징 환경에서 비전 검사는 극도로 높은 정밀도와 속도를 동시에 요구합니다. 공정 안정성을 유지하는 동시에 검사 공정의 인력 개입을 최소화하고 장비 셋업 및 튜닝 시간을 획기적으로 단축하는 것이 현재 반도체 제조 현장의 핵심 과제입니다.
업계 주요 과제
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고생산성 및 초단 택 타임
01패키징, 분류, 검사 장비는 ㎳ 단위의 응답 속도를 요구합니다. 비전 처리 지연은 곧바로 생산성 저하로 이어집니다.
Why Mega Phase하드웨어 레벨 병렬 연산
Mega Phase의 HWCI(Hardware Computational Imaging) 기술과 FPGA 기반 픽셀 단위 병렬 처리 구조는 이미지 재구성을 IPC에서 완전히 분리하여, 안정적인 실시간 동기화를 보장합니다.
즉각적인 결과 출력
이미지 처리와 분석을 카메라 내부에서 독립적으로 수행하고, 고해상도 결과를 ㎳ 단위로 직접 출력함으로써 고속 분류·검사 장비의 사이클 타임에 최적화됩니다.
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다층 구조 및 고반사 소재
02웨이퍼 표면, 리드 프레임, 금 와이어는 반사도가 매우 높아 미세 스크래치, 치핑, 이물질이 복잡한 배경에 의해 쉽게 가려질 수 있습니다.
Why Mega Phase고동적 범위(HDR) 이미징
적응형 단일 프레임 HDR 기술을 통해 와이어 본딩과 솔더볼에서 발생하는 과도한 반사를 억제하고, 어두운 영역의 디테일까지 균형 있게 복원하여 ㎛ 단위 결함을 정밀하게 검출합니다.
정확한 3D 형상 복원
독자적인 광학 알고리즘을 통해 표면 반사 특성을 분리·분석합니다. 복잡한 고투명 필름 환경에서도 실제 형상에 가까운 3D 포인트 클라우드 특징과 텍스처를 정확하게 추출합니다.
초고해상도 성능
최대 20MP의 고해상도 CMOS 센서를 기반으로 2×2 픽셀 수준의 미세 결함 검출이 가능하며, 웨이퍼 및 패키지 제품의 품질 신뢰성을 안정적으로 확보합니다.
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공간 제약과 시스템 통합의 복잡성
03반도체 장비 내부 공간은 매우 제한적이며, 비전 시스템의 소형화와 연산 자원 효율성이 필수적으로 요구됩니다.
Why Mega Phase올인원 통합 설계
이미지 취득, 처리, 광원 제어 기능을 하나의 카메라에 통합하여 외부 컨트롤러 없이도 시스템 구성을 단순화하고 설치 공간을 최소화합니다.
신속한 구축과 확장성
간단한 물리적 연결과 높은 제품 일관성을 통해 장비 셋업 및 생산 라인 증설 시간을 단축하고, 전체 엔지니어링 비용을 효과적으로 절감합니다.
반도체 검사에 대한 해답,
Mega Phase
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Clear vision, 지금 바로 경험하세요Sizector® 3D 산업용카메라
BGA 솔더볼 높이 측정
칩 공면도 검사
SiP(System-in-Package) 패키지 형상 분석
단일 프레임 처리 시간: 0.14sec
멀티 프로젝션 기술을 통한 그림자 및 가림 현상 제거
포인트 클라우드 커버리지 50% 향상
측정 정확도 30% 향상
주요 적용 분야
핵심 성능
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2D를 넘어, 더 정확한 판단2.5D 하이브리드 데이터 카메라
웨이퍼 AOI(외관 검사)
리드 프레임 결함 검사
IC 표면 마킹 문자 인식(OCR)
검사 속도: 0.5sec/pc
20개 이상의 알고리즘 모델 동시 출력
미세 균열, 오염, 스크래치 등 결함에 대한 고효율 AI 검출 지원
주요 적용 분야
핵심 성능